SiH4的制造方法低温与特气论文
【题名】：SiH4的制造方法低温与特气论文(SiH4DeZhiZaoFangFaDiWenYuTeQiLunWen) 【关键词】：SiH4 制造方法 静电复印 太阳电池 非晶硅 多晶硅 半导体 膜生长 原料气 钝化膜 硅器件 非晶形 【keywords】：SiH4 ZhiZaoFangFa JingDianFuYin TaiYangDianChi FeiJingGui DuoJingGui BanDaoTi MoShengChang YuanLiaoQi DunHuaMo GuiQiJian FeiJingXing 【作者】：八釰吉文 林良一 韩美 刘懋才      【来源】： 知识词典 【期刊名称】：低温与特气(DiWenYuTeQi) 【国际标准刊号】：1007-7804        【国内统一刊号】：21-1278 【作者单位】：不详(BuXiang) 【分类号】：TB852.25 TN304.2      【页码】：-20-25      【出版年】：1986.4         SiH4历来用作制造半导体用多晶硅、外延膜生长、硅器件钝化膜和聚硅膜等的原料气。目前，以发现非晶硅(a-Si：H)为契机，有关SiH4的应用研究就活跃起来了。而且，非晶硅的一部分已作为非晶形太阳电池和静电复印机用的感光磁鼓出售，体现了对SiH4的一部分需要。
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